掩模对准器是半导体制造过程中用于将图案转移到晶圆或基板上的精密机床;这些图案是微米级和纳米级的。图案(结构)是使用阴影转移方法创建的,其中要印刷的图案(光掩模)放置在光源和要图案化的基板(晶圆)之间。被图案化的基板首先涂有感光材料(光致抗蚀剂),然后该材料对从阴影图像投射的光作出反应。然后使用特定的化学品开发最终的图案。这个过程通常被称为光刻。
掩模对准器使光刻能够用于生产半导体器件,如晶体管、传感器和医疗元件等。除了用光刻胶均匀涂覆基板的方法外,掩模对准器对于光刻工艺至关重要。掩模对准器用于将涂层基板精确地对准包含要图案化的结构的光掩模,然后用光照射基板以将所需的图案转移到基板上。在光检测器易受温度变化影响的应用中,例如半导体光刻中使用的UV掩模对准器,必须将光检测器温度系数视为可能的误差源。目前许多掩模对准器采用强大的汞(Hg)灯,发射高水平的紫外线,暴露基板上的光敏材料(光刻胶)。取决于所使用的光刻胶,光应在宽带范围或特定光谱 G:436 nm、H:405 nm 或 I:365 nm 中传输。
获得汞灯青睐的替代选择是使用 UV LED 阵列。它们包含许多 LED,它们在 G、H 或 I 线波长下发光,或三者的组合,以产生与水银灯泡相似的宽带光谱。 (插图-什么是掩模对准器)
Gigahertz Optik GmbH 生产许多 不同配置的紫外滤光辐射计 经典光谱宽带紫外灯,如 中高压汞蒸气灯或低压灯 在面罩矫正器中发现。这些辐射计是与制造掩模对准器和其他光刻设备的客户协调开发的。这通常导致我们成为具有自有品牌业务安排的OEM供应商。我们提供独特的定制解决方案,例如内置于电子设备中的温度校正功能,可测量温度并相应地校正辐照度读数。
我们还提供用于测量不同LED波长辐照度的紫外辐射计和提供波长和强度信息的光谱辐射计。紫外滤光辐射计的优点包括良好的性价比、所需的扁平薄型探测器设计、快速测量时间和坚固性。光谱辐射计不限于特定的光谱带通,因此它们更通用和有用,特别是在研究用途中。
• BTS256-UV无线平板光谱辐射计 - 四种型号的输入光学器件
• RCH-XXX系列用于高温和紫外线辐照度的UV固化探测器
• PLCD 检测器/放大器 - 客户配置 - (4-20) mA 或 (0-20) mA 用于 PLC
• MDC-4-UV-BLUE智能积分探测器,用于带波长检测的LED
我们提供 带滤光片校正探测器的紫外辐射计 适用于经典光谱宽带紫外灯,例如中压汞蒸气灯或面罩对准器上的低压灯。在这里,我们依靠与该领域主要客户数十年的经验。通常,我们还充当带有客户徽标的OEM供应商。 由于LED光源的使用越来越多,我们还提供 用于测量不同 LED 波长辐照度的紫外辐射计以及光谱测量系统(光谱辐射计).紫外辐射计的优势在于其良好的性价比、扁平化设计、较短的测量时间和坚固性。光谱辐射计的测量在很大程度上与LED的光谱范围无关。我们很乐意与您合作,为您找到最佳解决方案,我们也很乐意支持 OEM 标签。
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• Gigahertz-Optik X1-UV-3727 紫外线辐射计
• Gigahertz-Optik P-21多功能彩色触摸屏照度计
• Gigahertz-Optik紧凑型BTS256-LED光谱辐射仪
• Gigahertz-Optik X1-RCH-116 LED UV胶固化仪/辐射计
• Gigahertz Optik X1-1 Optometer 光度计/测光仪器
• Gigahertz-Optik P-9710高端光度计。